미국 PIE Scientific사의 탁상형 진공 플라즈마 클리너, 원격 플라즈마 시스템

독일 Relyon Plasma사의 대기압 플라즈마: 핸디형, 반자동, 자동 시스템

 
 
 
 

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  DC glow discharge

Capacitively coupled discharge

Inductively coupled discharge

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마이크로웨이브 플라즈마

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포토레지스트 ashing/stripping

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와이어본딩 플라즈마처리

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Inductively coupled discharge plasma - 유도 결합 방전 플라즈마

 

 유도 결합 방전(Inductively coupled discharge) 또한 축전 결합 방전(capacitively coupled discharge.)과 같이 RF 파워 써플라이
 (RF power supply)를 이용합니다.   파워 주파수는 보통 수십 KHZ에서 수십 MHz 사이입니다.  아래와 같은 실린더 타입 플라즈마
 챔버는 전기적으로 절연된 챔버 벽 주위로 안테나가 감싸져 있습니다.  RF 제너레이터는 코일 안테나를 통해 교류 전류를 생성하여,
 플라즈마 챔버 내에 교류 자기장을 만듭니다.   멕시웰 방정식(Maxiwell equations)에 따르면, 진동 자기장은 플라즈마 챔버 내에
 진동 전기장을 생성합니다.  이는 궁극적으로 전기장이 전자들을 가속화시켜 플라즈마를 생성하게 됩니다.  가진력(excitation force)은
 자기장을 통해 전달되고, 유도 결합 방전(inductively coupled discharge)은 또한 "H-discharge"로도 칭합니다.  몇몀 사례에서 
 "electrodelss discharge"라고 서술되는데,  이는 유도 결합 방전에 음극, 양극이 없기 때문입니다.  

Capacitively coupled discharge plasma

Concept of inductively coupled discharge

 

 

 

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