축전 결합 방전(Capactiviely coupled discharge)과 유도 결합 방전(inductively coupled discharge)은 보통 100MHz 이하, 수십 KHz 범위의
 RF 파워 써플라이에 의해서 생성되는데,  주파수가 GHz 범위에 도달하면, 상이한 플라즈마 여기 메카니즘(plasma excitation mechanism)이
 적용됩니다.  마이크로웨이브 플라즈마(Microwave plasma)는 보통 아래의 1가지, 또는 2가지 모드에서 작동됩니다.  

표면 웨이브 모드(Surface-wave mode) : 마이크로웨이브는 침투 깊이(skin depth)에 상응하는 깊이만큼만 플라즈마로 침투합니다.  다행히도, 플라즈마는 매우 전도성이 높습니다.  입력 마이크로웨이브는 플라즈마 표면을 따라 에바네슨트 파(evanescent wave)를 생성합니다.  그러므로, 전자들은 플라즈마 표면을 따라 가속화되고, 보다 많은 뉴트럴 파티클을 이온화시킵니다.      (http://en.wikipedia.org/wiki/Evanescent_wave)

공명 모드(Resonator mode) : 만약 플라즈마 밀도가 한계치를 초과하면,  공명 캐비티(resonator cavity)에 의해 확정된 정재파(standing wave)는 플라즈마를 침투할 수 있고, 웨이브 규모에 따라 밀도가 변화하는 플라즈마를 생성합니다.