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Tabletop Plasma Cleaner, Etcher, Remote Plasma Sources, SEM/TEM sample & holder cleaning and storage solution...
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PIE Scientific사 - 진공
플라즈마 클리너 & 에처 (made in USA)
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탁상형 진공 플라즈마 시스템 4 모델, 원격(remote) 플라즈마 소스 및 컨트롤러 4 모델
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2개의 상이한 풀라즈마 소스(모드: Direct & Remote) 장착이 가능하여 다양한 실험.연구가 가능합니다 !
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| (Tergeo, Tergeo Plus 모델) |
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(주)인텍써플라이는 미국 PIE Scientific사의 한국 독점 대리점입니다.
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1) 탁상형 전자동 진공 플라즈마 클리너 & 에쳐 - 4가지 모델, 보증기간 : 2년
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Tergeo 시리즈 : Laboratory Plasma Cleaning & Etching, Surface Treatment 
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Tergeo (모델명) :
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 RF Power Supply: 0-75W, 0-150W, 1W interval
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Plasma cleaning, etching, ashing, descum, activation...
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Working area: up to 4인치
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Dual Plasma mode : Direct mode-Capacitively Coupled Discharge
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& Remote Mode-Inductively Coupled Plasma(옵션)
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Tergeo Plus :
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RF Power Supply: 0-150W, 0-300W, 0-500W, 1W interval
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Plasma cleaning, etching, ashing, descum, activation...
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Working area: up to 4, 6인치
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Dual Plasma mode : Direct mode-Capacitively Coupled Discharge
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& Remote Mode-Inductively Coupled Plasma(옵션)
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Tergeo Pro :
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RF Power Supply: 0-150W, 0-300W, 0-500W, 1W interval
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Plasma cleaning, etching, ashing, descum, activation...
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Working area: up to 4, 6, 8인치
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Single Plasma mode : Direct mode-Capacitively Coupled Discharge
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Tergeo-EM :
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RF Power Supply: 0-150W, 1W interval
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Plasma cleaning and surface activation for cryo-EM,
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TEM and SEM samples, grids and holders (TEM rod: 2개 기본, 4개까지-옵션)
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Working area: up to 4인치
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Single Plasma mode : Direct mode-Capacitively Coupled Discharge
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(Applications - 주요 적용 분야)
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산소 플라즈마 에칭, 표면 처리
Oxygen Plasma Ethching and Treatment
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포토레지스트 에싱, 디스컴, MEMS
Photoresist Ashing, Descum and MEMS
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SEM, TEM, FIB 샘플 클리닝
Sample Cleaning for SEM, TEM FIB
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마이크로플루이딕, PDMS, 유리슬라이드, 랩온 칩
Microfluidics, PDSM, and Glass Slides, Lab-on-a-chip
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와이어 본딩, 플립 칩, 언더필/다이본딩, 인캡슐레이션
Plasma Cleaning prior to Wire Bonding
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금속-금속, 복합소재 본딩
Metal to Metal Composite Bonding
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폴리머 플라즈마 처리
Plasma Treatment for Polymer
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메디컬 분야 - Medical Devices
Plasma Treatment for Medical Device
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Plasma Cleaning for
Surface Activation & Cleaning
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- Tergeo 진공 플라즈마 시스템의 특.장점, 특허(USA) -
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다양한 플라즈마 공정 수행 가능 : 플라즈마 표면 ①클리닝 ②처리(개질) ③에칭 ④에싱 ⑤디스컴 ⑥멸균....
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SmartClean™ technology - 완벽한 플라즈마 공정을 원하시면 PIE사의
전자동 진공 플라즈마 클리너를 선택하세요 !
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가장 진보된 탁상형 진공 플라즈마 클리너로서, 초보자도 쉽게 운영하실 수 있는 전자동 모델입니다.
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초보자도 신뢰할 수 있는 유효한 데이터를 쉽게 반복적으로 얻을 수 있습니다. |
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nature 포함 다수의 유명 학술지에 개재된 논문, 기술자료에 장비명 소개 ! |
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20개까지 공정 프로그램(Recipe)을
저장하여 사용할 수 있습니다 : 표준 레시피 제공 및 관련 자료 제공
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Tergeo 시리즈 4모델: Tergeo Basic, Tergeo Plus, Tergeo Pro, Tergeo-EM(in-situ TEM, Cryo-EM, SEM, grid, holders...)
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하나의 플라즈마 시스템에 2가지 플라즈마 모드(소스) 사용 가능 - ①직접 침전(Direct) : Capacitively Coupled Discharge
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②원격 하향 모드(Remote-옵션) : Remote Mode-Inductively Coupled Plasma
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다양한 어플리케이션 대응...Tergeo 플라즈마 장비(direct + downstream gentle mode + pulse mode + plasma intensity sensor)는
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타 장비에서는 어려운 2D 물질 연구, 파우더 샘플, 민감한 부품.소재에도 적합합니다 - 원격 하향 모드(Remote-옵션) :
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(사례) thin oxide, ESD sensitive devices, anti-reflective coating, graphene, nanotube nanoparticles,
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DLC (diamond-like carbon), carbon fiber, or holey carbon grid for TEM....
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특허 획득 (USA) : 터보 방전 플라즈마 소스 디자인 기술 외 다수 !
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알루미늄 챔버가 아닌 석영 챔버 채택으로 다양한 장점을 가질 수 있습니다 :
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1) 고전압 RF 전극이 챔버 외부에 위치하여 장비가 컴팩트하게 디자인 된다.
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2) 고전압 RF 전극이 챔버 외부에 위치하여 균일성을 높일 수 있다.
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3) 고전압 RF 전극이 챔버 외부에 위치하여 메탈 오염도를 줄일수 있다.
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4) 고전압 RF 전극이 챔버 외부에 위치하여 RF 전극을 히팅하지 않는다.
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(자사의 quartz 챔버 내부의 플라즈마 사진) (타사의 저가형, 구형 모델: 알루미늄 챔버+챔버 내의 전극 위치)
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고전압 RF 전극 (0-75 watt or 0-150 watt or 0-300 watt or 0-500 watt,
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13.56MHz-가장 이상적인 MHz, automatic impedance matching) 채택.
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펄스 모드 작동 (pulse mode operation) : 고압, 낮은 파워에서 플라즈마 점화.
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플라즈마 세기 센서(미국 특허 획득), 3-recipe job sequence 기능, 기타 첨단 기능들이 탑재되어 있습니다.
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2개의 공정 가스 라인 내장 (2xMFCs: 0~100 sccm)- 1x가스라인 추가 가능(옵션), 7인치 산업용 터치 스크린 컨트롤.
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가스 믹서 (gas mixer)가 필요치 않습니다 ! |
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다양한 유용한 옵션 장치들 : room air dust particle filter set, adjustable external flow rate control valve, |
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water vapor delivery kit, ... |
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사용이 쉬운 intuitive 프로그램, Smart 자체 진단 프로그램 탑재 -
보증
기간 : 2 (년)
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공정 각 단계에 대한 설명, 주요 부품들을 지속적으로 모니터링하고, 팝업 창으로 내용을 전달합니다.
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다양한 국제 인증 획득 : TUV, UL, SA, CE, IEC, IECEE
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최신 모델(Tergeo-EM) 출시: All in One 모델 : 일반 플라즈마 표면 클리닝, 에칭, 표면 처리 기능은 물론이고,
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TEM/SEM 샘플의 플라즈마 클리닝, 동시에 2개의 TEM 샘플 rod(옵션:4개까지) 처리, Cryo-EM, Hydrophillic...등에 효과적임.
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RS232 통신포트가 있어, 케이블 연결로 PC와 연동 가능하고, 실리콘 밸리 본사로부터의 원격 솔루션, 화상(Skype) 통화,
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PC log-on, log 전송 등의 다채널 원격 지원이 가능합니다 !
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실리콘 밸리의 세계적인 기업들, Apple/Google/Intel/Amazon, NASA, NIH, Harvard, Berkeley, MIT, HITACHI, JEOL,
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국내 서울대(유전공학연구소, 화학부), 연세대, 고려대, WISTEK, 삼영순화, 전북대, 충남대, 부산의과대, 한국기술교육대,
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UNIST, KIST, GIST, KRISS, ADD, Samsung, 동우화인켐.... 한양대, 성균관대, 아주대, 인제대, 공주대 기타 등등에서 잘
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사용하시는 최고 성능의 제품입니다.
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2) 원격 플라즈마 시스템 : Remote Plasma Sources & Controllers
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(4가지 모델) 원격 플라즈마 소스 (연구장비 챔버에 장착) + 컨트롤러 (원격)
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Remote plasma source to generate oxygen, hydrogen, CF4, SF6, ambient air plasma.
Remove hydrocarbon and fluorocarbon contamination inside SEM, FIB, TEM, XPS, and other high vacuum chambers. Reduce carbon deposition. Clean samples and chamber before ALD, epitaxial growth.
Improve interface quality and reduce defects
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모델: EM-Kleen
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Semi-Kleen-Q
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Semi-Kleen-S
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UHV Chamber용  r
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Controller
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Controller
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(plasma source)
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(plasma source)
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(plasma source)
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(plasma source)
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(Applications - 주요 적용 분야)
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박막 증착, 표면 분석
Thin Film Deposition & Syrface Analysis
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반도체 장비 오염 제거(CD-SEM, EBR, EBI, EUVL)
Semiconductor Inspection, Review, Metrology
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In-situ SEM, TEM, FIB 샘플 클리닝
Sample Cleaning for SEM, TEM FIB
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차세대 리소그래피(NGLs) 장치-Next Generation Lithography(NGLs) System
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XPS, SIMS, AES의 오염 제거-Hydrocarbon Contamination Removal on XPS, SIMS, AES
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Plasma clean Ultra-High 진공 챔버
Plasma Clean Ultra-High Vacuum Chamber
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챔버 장착형, 원격 플라즈마 :
(4 모델: EM-Kleen, SEMI-Kleen-quartz & sapphire, UHV챔버용)는 반도체장비,
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연구장비 챔버(Remote plasma cleaner for SEM, FIB, XPS, ALD, EUVL and other high vacuum chambers.)에
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장착하여 원격으로 사용하는 제품들입니다. 작지만 스마트하고 강력한 원격 하향식 플라즈마 클리너 -
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Small, yet smart and powerful downstream plasma cleaners !
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before / after
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before / after
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3) Tergeo 시스템 관련 제품, 악세사리 ....
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TEM specimen holdevacuum pumping station
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20 specimen TEM sample holder
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TEM rod insert adapter : ~4
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TEM 9 inch Cube Chamber : ~8
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25 feet extreme-temperature teflon tube
ID=1/8", OD=1/4"
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Air Particle Filter Assembly + Flow control valve :
공기를 공정 가스로 사용
또는 챔버 배기용으로 사용
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Water vapor delivery kit
for creating super hydrophilic surface
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- About PIE Scientific -
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PIE Scientific 社는 플라즈마 소스(plasma sources) 개발과 그 응용 분야인 플라즈마 에칭(etching),
샘플 표면 개질(sample surface modification), 오염물 제거(contamination removal), 이온 & 전자빔
(ion and electron beam) 등의 제품을 개발하는 전문성을 갖춘 회사입니다. PIE는 Plasma(플라즈마),
Ion(이온), Electron(전자)를 의미합니다. 제조사의 설립 취지는 반도체, 원자력공학 분야에서 개발된
최신의 플라즈마 기술을 연구단체에 적용가능한 플라즈마 장비로 개발.생산하는 것으로 Lawrence
Berkeley National Laboratory의 '플라즈마, 이온 소스 기술 그룹'의 동문을 주축으로 설립 되었습니다.
최첨단 전자동 플라즈마 클리너, 플라즈마 처리장치, 이온 소스, 기타 관련 부품 등을 일반 소비자는 물론,
반도체 장비 제조사, 전자현미경 제조사, 기타 저희 제품을 필요로 하는 제조사에 OEM 공급도 하고 있으며,
엔지니어링 디자인과 기술적 역량에 자부심을 갖고 100% 소비자 만족을 위해 최선을 다 하고 있습니다.
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- 최신 소식 - 관련 전시회 컨퍼런스 참여, TEM rod storage system 출시, 터보 방전 기술 특허 승인.
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PIE Scientific LLC had presented our product at the Microscopy & Microanalysis 2019 conference and tradeshow in Portlan Oregan. This has been the fouth year since we participated M&M in 2016. We will also be present at the ISTFA 2019 tradeshow and conference on November
10th-14th. 08/06/2019
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PIE
Scientific LLC released TEM sample rod storage system at the Microscopy & Microanalysis 2018 (M&M2018) conference & tradeshow. Our TEM storage system can individually vent and pump each storage cells. Total 6 storage cells per system. 08/06/2018
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Our Turbo Discharge™ plasma source design technology has been approved by US patent office. (Patent number: US9997335B2) Turbo Discharge™ technology can significantly improve the plasma efficency at low pressure range and increase the production rate of radical species for downstream etching application. 03/26/2018
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( 국내.외 주요 소비자 리스트 - Valuable Customers )
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연세대학교
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국립공주대학교
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인제대학교
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WISTEK
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e-sense
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삼영순화
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UNIST
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한국기술교육대학교
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고려대학교
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서울대학교 (유전공학) : Tergeo-EM
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한양대학교
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동우화인켐
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부산대학교 (의과대학) : Tergeo-EM
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전력연구원
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성균관대학교
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아주대학교
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KIST (NRG)
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ESOL (EUVL): SEMI-Kleen
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전북대학교
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충남대학교
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단국대학교
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GIST - MSE
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제주대학교
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KRISS
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ADD
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SAMSUNG (SAIT)
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한국공학대학교
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서울시립대학교
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2. 세계 최소형 핸디형의 대기압 저온 플라즈마, 공업용 플라즈마...
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Relyon Plasma -
대기압
플라즈마 : made in Germany
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2002년 설립된 독일의 플라즈마 기술 전문 업체로서, TDK의 자회사입니다.
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Surface Activation / Cleaning/Printing / Varnishing / Adhesion Improvement / Disinfection...
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처리 가능 소재 : Metals, metal alloys - Plastics and composites - glass, ceramics, inorganic composites,
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natural stone - natural leather, imitation leather - natural fibre, wood, paper - 신소재.희귀소재는 사전 테스트 필요.
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제품 형태에 관계없이 처리 가능 :
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매우 정밀한 부위, 등고선, 3D, 케이블.튜브, 얇은 섬유.필라멘트, 파우더, 기공.개기공 있는 표면, 넓은 표면....
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1) PZ3 / PZ3-i (모델) : 동급 세계 최소형 핸디형 대기압 저온 플라즈마 표면 처리기 !
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- Atmospheric Cold Plasma -
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 PZ3
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 PZ3
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 PZ3-i
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 PZ3-i
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표준(비전도성) 모듈
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전도성 모듈
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멀티 가스 모듈
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nearfield needle
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니들형 모듈
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PZ3 (모델) : 핸디형 소형 대기압 저온 플라즈마 처리기 - 동급 최소형 !
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핸디형 초보자용 모델로서 저 예산으로 다양한 연구.실험, PP, 다품종 소량 생산 등의 공정 수행:
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장소(실험실/사무실/실외...)에 관계없이 전원만 있으면 사용 가능합니다.
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PZ3-i : 데스크탑 로봇, 자동/반자동 시스템에 통합하여 사용 가능한 인라인 모델:
2022년 신제품
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PDD (Piezoelectric Direct Discharge) 기술 기반의 세계 최소형 대기압 저온 능동 플라즈마 모델
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소비자 리스트 : 삼성전기, 서울대, 경희대, 원드롭, 플람, 다이텍연구원, 한국전자통신연구원, KETI, ....
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( 국내 주요 소비자 리스트 - Valuable Customers )
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경희대(치과대학)
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원드롭
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플람
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다이텍연구원
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SNVIA
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한국전자통신연구원
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SAMSUNGSEM
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유니폴리
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KETI
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순천대학교
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서울대학교
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KIER
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호서대학교
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KIST
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티센바이오팜
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DGIST
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LG전자
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GIST
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SP2TX
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성균관대학교
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KAIST
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DENQ
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SAMSUNG
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랩서치
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삼성전기
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2) PlasmaTool (모델) : 캐리어 타입의 고출력 공업용 수동 모델 (컴퓨레셔 내장형)
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All in One 타입 !
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모델: PlasmaTool: PAA 기술 기반의 핸디형 고출력.고성능 공업용 플라즈마 모델 : ▶
녹/페인트 제거, 페인팅/바니싱 전의 표면 클리닝, 표면 활성화, 복원, 인테리어분야...
Industrial Cleaning & Stripping : 캐리어 타입으로 이동이 쉽고 1인 작업 가능 !
빌트-인 통합 컴프레서가 있어 외부 가스 공급이 필요치 않다.
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3. 관련 제품들 - 표면 에너지(장력) 측정 다인펜/잉크, 접촉각측정기, 표면장력측정기
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표면에너지(장력, 청결도) 측정 펜/잉크
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포터블 광학 접촉각측정기
made in Japan
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-s.jpg)
표면장력 측정기-du Nouy method
made in Japan
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한국대리점 : (주)인텍써플라이 / 서울시 강동구 양재대로 97길 24(2층) (우: 05375), / TEL) 02 487-8782 / Fax) 02-487-8784 / 
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