PDMS(폴리디메틸실록산), 유리 슬라이드, 랩-온-칩, 기타 미세유체공학 응용에 대한 플라즈마 처리
국제적인 학술지 Nature에 기재된 PDMS bonding 관련 article 2편에 언급된 저희 Tergeo plasma : 장비 문의시 자료 제공 가능.
Typical applications (적용 분야)
Remove organic contaminations
Sterilize surface
Generate hydroxyl and carboxyl surface moieties
Increase surface hydrophilicity
Improve bonding of PDMS microfluodics device with glass or PDMS substrate
Related products - 관련 제품 : 문의주시면, 관련 자료 발송, 주문시 표준 레시피(recipe) 3종을 공급합니다.
Tergeo and Tergeo-plus tabletop plasma cleaner
마이크로채널(Microchannels)은 다양한 바이오메디컬 응용분야에서 중요한 툴로 부상해 왔습니다. 표면 특성의 컨트롤은 높은
성능의 마이크로플루이딕 디바이스(microfluidic devices)에서 매우 중요합니다. Polydimethylsiloxane (PDMS: 폴리디메틸실록산)은
경제성과 제조 용이성, 생체적합성, 투명도 등으로 미세유체공학에서 널리 사용되는 실리콘 기반의 폴리머 가운데 하나입니다.
그러나, PDMS는 내재적으로 소수성을 지니고 있습니다. 통상 마이크로플루이딕 디바이스(microfluidic devices)는 친수성의
마이크로채널을 필요로 하며, 산소, 알르곤, 질소, 암모니아 가스는 마이크로 플루이딕, 바이오 디바이스 등의 표면 처리, 클리닝,
살균, 친수성 전환, 접착력 향상 등을 위해 사용되어져 왔습니다. PDMS의 산화 공정은 잘 제어되어야 합니다. 적절한 양의 산화가
충분한 수산기, 카르복실기 기능성 그룹을 생성하여 접착력과 잦음성을 향상시킬 수 있습니다. 그러나 PDMS 표면의 지나친 산화는
깨지기 쉬운 실리카 층을 형성시키고 접착력 감소를 야기시킵니다.
Tergeo 플라즈마 클리너의 경쟁제품 대비 장점
보다 균일한 플라즈마 성능을 나타냅니다. PIE Scientific사는 집중적인 연구를 통해 플라즈마 발생기의 균일도를 향상시켜
왔습니다. 일부 저가의 플라즈마 클리너는 외부 인덕터 코일 타입 안테나를 사용하여 균일한 RF 전기장을 가지기 어렵습니다.
만약 RF 금속 전극이 플라즈마 챔버 내에 위치하면, 내재적인 대칭 구조를 갖지 못합니다. 플라즈마는 고전압의 RF 전극에,
특히 전극 가장자리는, 가까우면 세기가 더 강합니다. Tergeo 플라즈마 클리너는 2개의 대칭적인 외부 전극 디자인으로
다른 플라즈마 클리너 디자인에 비해서 높은 플라즈마 균일성을 가지고 있습니다.
1대의 클리닝 장비에 2가지의 침전 클리닝 모드와 자유 이온 하향식 클리닝 모드를 가지고 있는 Tergeo 플라즈마 클리너는
2개의 플라즈마 소스를 통합한 제품입니다. 디렉트 플라즈마 소스(Direct plasma source)는 전통적인 침전 모드 플라즈마
클리닝에 사용되고, 침전 모드 클리닝에서 샘플은 플라즈마에 침전되는데, 이러한 공정에서는 샘플이 산소 또는 불소 라디칼과
화학적 반응의 대상이 되고 물리적 이온 스퍼터링 충격의 대상이 됩니다. 박막 코팅된 디바이스는 이온 스퍼터링으로 민감한
코팅에 손상을 줄 수 있습니다. 높은 표면 전하 또는 전류는 민감한 IC 디바이스에 손상을 줄 수 있습니다. 이러한 경우에는
하향식 플라즈마 클리닝을 추천하며, 플라즈마는 별도의 원격 플라즈마 소스에서 생성되고, 중성 산소, 불소 라디칼만이 샘플
챔버에 확산되어 포토레지스트와 유기 오염물과 반응을 합니다..
진보된 공정 컨트롤 기술. 플라즈마 균일성과 세기는 챔버 압력에 의해 변화될 수 있습니다. Tergeo 플라즈마 클리너는
진보된디지털 압력 센서(MEMS MEMS based digital pressure sensor)기술로 압력 모니터링을 합니다. 또한 PIE Scientific사는
유니크한 플라즈마 센서 기술(unique plasma sensor technology)을 개발하여 실시간 플라즈마 세기를 모니터링 할 수 있습니다.
정량적 데이터는 일상의 반복적이고 이룰적인 결과를 얻는데 중요한 사항입니다.
전자동 오퍼레이션-Fully automatic operation. 몇몇 기초적인 플라즈마 시스템들은 사용자가 플라즈마 챔버 내로의
가스유입에 니들 밸브를 수동으로 조절합니다. 이러한 수동 조절로는 정확한 반복적 그스 유량을 얻기가 불가능합니다.
Tergeo 플라즈마 클리너는 전자동 유량제어기(mass flow controller (MFC)를 사용하여 0에서 to 100sccm꺼지 0.2 sccm 미만의
정확도로 가스 유량을 정밀 제어합니다. 마이크로 컴퓨터가 내장된 저희 장비의 전자동 운영은 다양한 레시피의 일상의
반복적인 작업 수행을 정확하게 할 수 있도록 합니다.
Oxygen Plasma Etching and Treatment
