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            SEMI-KLEEN Quartz 모델 - 하향식 플라즈마 클리너

SEMI-KLEEN for semiconductor grade cleanness - 반도체 수준의 청결도가 필요한 경우

많은 독창성을 갖춘 SEMI-KLEEN 플라즈마 클리너는 특히 반도체 장비 산업의 요구사항을 충족시키기 위해 디자인되었습니다.
전자동 디자인은 E-Beam Review(EBR), E-Beam  Inspection (EBI) and CD-SEM 툴 등의 일상적인 운영의 틈새없는 통합을 가능케
하였습니다.   반도체 산업에 대한 소유권이 있는 플라즈마 클리닝에 대한 보다 자세한 사항은 연락주세요.  다음은  EBI, EBR,
CD-SEMs. 등에 대한 탄화수소계 오염물 제거에 대한 독창적인 특징들입니다.

• 고효울 방전 기술 : 저희 플라즈마 클리너는 0.1mtorr 미만의 낮은 압력에서 플라즈마 방전을 실시하고 유지할 수 있습니다.
  --- 경쟁 제품 대비 10의 몇 승 정도 더 낮습니다.
  고효율의 플라즈마 소스만이 이와 같은 납은 압력에서 작동될 수 있습니다.  반도체장비 보통 SEMs 분석기보다 몇배 큰
  챔버를 가지고 있습니다..
• 낮은 압력 가동은 터보 펌프를 낮은 힘으로 가동시켜 펌프의 수명을 증대시킵니다.
• 소유권이 있는 낮은 파티클 플라즈마 소스 디자인은 d인텔, 삼성, TSCM과 같은 엄격한 소비자의 PWP 요구사항을
  충족시킵니다.
  
• 자동 임피던스 매칭과 가스 전달 밀패 회로는 균일성과 신뢰성 있는 클리닝 성능을 나타냅니다.
• EMI 절감 특성은 컨트롤러가 전자 랙(electronic rack) 어느 곳에 있든지 칼럼과 전자장치와 EMI 장애가 없습니다.