Plasma cleaner

Non-damaging surface contamination removal for thin film deposition system and surface analysis
- 박막 증착 장비, 표본 분석 장비의 손상없는 오염 제거에 사용 -

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EM-Kleen	SEMI-KLEEN Sapphire	Remote Controller

Corrosion resistant remote plasma source for ALD - ALD(원자층 증착)용 내부식성 원격 플라즈마 소스

표면 오염은 ALD, SIMS, XPS와 같은 박막 증착과 표면 분석 시스템에 골치거리였습니다. SEMI-KLEEN 원격 플라즈마 클리너는
전극없는 유도 결합 플라즈마 방전 기술(inductively coupled plasma discharge technology)을 이용하여 경타사 제품에서 발생하는
금속 스퍼터링 문제를 피할 수 있습니다. 지적 재산권이 있는 플라즈마 소스 개발은 플라즈마 지수를 감소시켜, 플라즈마 쉬스
(plasma sheath) 밖으로 드리프트되는 이온 에너지를 결정하는 플라즈마 지수를 감소사켜 줍니다. 표면 손상없는 최상의 청결한
표면 오염원 제거의 핵심은 매우 낮은 플라즈마 지수를 갖는 프라즈마 소스 생산이며 플라즈마에서 생성되는 라디칼 스페시즈의
화학적 공격으로부터 견딜 수 있는 챔버 재질의 선택입니다. 사파이어 플라즈마 튜부와 내화학성 진공 씰 등을 갖춘 SEMI-KLEEN
플라즈마 클리너 모델은 H2, NF3, CF4, H2S, HF and NH3 등과 같은 공격적이고 때론 부식성 있는 내화학적인 제품입니다..

저압 방전 기술은 재결합 손실을 낮춰서 수소와 같은 공정 가스의 세정율을 높입니다. 하기의 도표에서 XPS 결과는 SEMI-KLEEN
플라즈마 클리너가 2초 만에 InGaAs 샘플의 탄화수소 오염물 제거를 나타냅니다.

Sample cleaning for ALD and XPS system

XPS analysis result of remote hydrogen plasma cleaning for InGaAs sample.
Courtesy of Professor Kummel and Dr. Mary Edmonds in UCSD

Sample cleaning for ALD and XPS system

SEMI-KLEEN remote plasma cleaner for ALD system

Non-damaging surface contamination removal for thin film deposition system and surface analysis - 박막 증착 장비, 표본 분석 장비의 손상없는 오염 제거에 사용 -

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