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        (주요 적용 분야)

EM-KLEEN in-situ remote plasma cleaner can be used for in-situ cleaning of samples and vacuum chambers
for electron microscopes and other types of analytical instruments, such SEM, FIB, TEM, XPS, and SIMS.

EM-KLEEN is a fully automatic plasma source. The design is intuitive and versatile.

With pressure sensor, automatic gas flow controller, plasma sensor, temperature sensor, and LCD touchscreen
controller with embedded microprocessor working in tandem, EM-KLEEN in-situ plasma cleaner can take care
of your system automatically and provide protection against potential user mistakes.

EM-KLEEN remote plasma source and 75W portable controller

EM-KLEEN 원격 플라즈마 클리너 모델은 SEM, FIB, TEM, XPS, SIMS 등과 같은 분석 장비의 챔버, 샘플 등을 세정할 때 사용하며,
원격으로 작동됩니다.  마이크로 컴퓨터가 내장된 저항막방식의 LCD 터치스크린 컨트롤러와 원격 플라즈마 소스로 구성되어
있습니다.  원격 플라즈마 소스는 세정하고자 하는 진공 챔버에 설치됩니다.   표준 진공 인터페이스 포트는 NW/KF40 flange이고, 
다양한 SEM 포트에 맞는 아답터 제공이 가능하고 옵션으로 CF2.75" flange도 공급 가능합니다.

EM-KLEEN 원격 플라즈마 소스(발생기)는 소형 사이즈에 비해 피라니(pirani) 압력 센서, 자동 가스유량 컨트롤러, 플라즈마 세기 센서,
온도 센서, 냉각 팬 등이 통합된 우수한 성능의 제품입니다.   10^-7 Torr 진공도까지 쉽게 도달하며, 가스 유량 컨트롤러는 소비자가
원하는 플라즈마 클리너 챔버 내부의 가스의 유량을 자동으로 조절.유지시켜 줍니다.  소형 압력센서는 일정하게 샘플 챔버 압력을
모니터링하고 장비의 안전 운영 모드에서 안전 장치(Safety Interlock)의 트리거로 사용될 수 있으며 SmartSchedule™ 특성에 대한
샘플 로딩 수를 계산할 수 있도록 합니다.   냉각 팬은 플라즈마 소스의 과열 현상없이 높은 파워와 고속으로 클리닝 작업을 수행할 수
있도록 합니다.    온도 센서는 높은 파워로 장시간 사용할 때 또 다른 안전 장치 역할을 합니다.  플라즈마 세기 센서(Plasma strength
sensor)는 실시간 플라즈마 세기를 측정하여 사용자가 이를 알 수 있도록 도와줍니다.  

EM-KLEEN은 피라니(pirani) 압력 센서, 자동 가스유량 컨트롤러, 플라즈마 힘 센서, 온도 센서 등은 마이크로컴퓨터가 내장된 터치스크린
컨트롤러와 상호 유기적으로 작동하여 전자동(full automatic)으로 최적의 세정 작업을 수행하며,  발생할 수 있는 사용자 오류를 방지하여
줍니다.  PIE Scientific사에 의해 개발된  SmartClean™ 기술과 핵융합, 반도체 산업의 최첨단의 플라즈마 소스 디자인을 결합한 첨단
기술의 원격 플라즈마 클리닝 제품입니다. 경쟁 제품에 비해 월등한 성능을 나타내며 기존에 없는 새로은 기능들을 포함하고 있습니다.

                10 minute long scan before and after SEM chamber cleaning

Remove carbon mark created in previous scan with 2-minute plasma cleaning.
No more dark scan mark on this sample after 6-minute plasma cleaning. Cleaning speed is
3~5X faster than competitors using the same sample on the same SEM system.

• 미국 캘리포니아 소재 로런스 버클리 국립연구소(Lawrence Berkeley National Laboratory)에서 수행한 저압 고효율의 플라즈마 
  방전 기술을 접목시킨 첨단 플라즈마 클리닝 장비입니다.
• 매우 낮은 압력에서도 즉시 플라즈마 작동이 가능하여 플라즈마 작동에 대한 걱정없이 사용하실 수 있습니다.
• 압력 센서와 전자식 가스 유량 컨트롤러에 의해 피드백 콘트롤이 가능하고, 사용자께서는 직접 상이한 플라즈마 소스 작동 압력을
  설정할 수 있습니다.  플라즈마 클리너는  압력 센서에 의한 서보 피드백 컨트롤 루프를 통해 가스 유량을 조절하여 자동으로
  소비자가 설정한 압력을 유지시켜 줍니다.
• 플라즈마 센서(Plasma probe)는 플라즈마 세기를 모니터링하여 사용자께서 최적의 조건을 설정토록 도와줍니다. 적정 가스 유량은
  진공 펌프 스피드 와 챔버 사이즈에 따라 상이합니다.  저희 플라즈마 세정기는 사용자께서 더 이상 적정 가스 유량에 신경쓰시지
  않도록 개발되어 특허 출원된 플라즈마 세기 센서를 통해 자동화되어 있습니다.
• 75Watt RF 파워 at 13.56MHz.
• 마이크로 컴퓨터, 터치스크린 유저 인터페이스 채택
• RS232/RS485 프로토콜을 통한 직각적 원격 PC 컨트롤 유저 인터페이스
• 지능형 "Safe operation mode-안전 모드", "Expert operation mode-전문가 모드"의 2가지 모드와 맞춤형 경고 메시지는 다양한
  연구원들이 사용하시는 전자현미경, 이온현미경 사용에 매우 유용한 기능들입니다. 
• 마이크로 컴퓨터의 사용자 맞춤형 스마트 스케줄 기능으로 장비를 자율적으로 관리해 줍니다.
• 최대 60개의 운영 프로그램 저장
• 능동형 팬 냉각으로 고출력 고속 방전이 가능
• 과열 방지 기능
• 컴팩트한 컨트롤러는 다른 장비로의 이동이 용이합니다.